第308章 已經存在的光刻機聯盟(第2頁)

 至於其他的企業，不需要太先進製程的，會選用魔都微電的光刻機，或者直接去買人家換代下來的二手光刻機。
 “陳總，目前我們自主研發的45納米光刻機，已經解決了掩膜版技術，光刻技術和蝕刻技術，唯有光源和鏡片方面遲遲得不到突破。”
 “我們的蝕刻機技術也打破了西方的壟斷，處於國際主流水平。”魔都微電的徐叢說道。
 這些發展對於在座的幾家公司老總來說，都是透明的，他們也沒少訂購魔都微電的光刻機，所以這不是什麼保密的進度。
 魔都微電的90納米光刻機技術相對成熟以後，自然是要開始45納米的研發。
 陳塵點了點頭，瞬間大喜，看來自己還是小覷了國家對半導體產業的投入以及技術了。
 這不是保密的東西，自己也是剛剛知道，人家魔都微電的90納米已經外售，45納米也完成了大部分。（這裡是提速架空，實際上魔都微電的90納米光刻機是16年才實現量產，是步進掃描投影光刻機，分辨率能做到90nm。）
 至於光源問題？
 我?剛好有小愛給的光源技術啊！
 “也就是說我們現在首先需要解決的就是穩定的光源。”
 “目前有方案嗎？”
 “唉。”
 說到這個，徐叢先是嘆了一口氣，又把酒杯裡的酒一飲而盡，才悠悠的說道：“陳總，你也知道，我們魔都微電背後是有國資支撐的，錢我們不怎麼缺。”
 “但是再多的錢也沒辦法解決技術上的問題，我們的研發團隊一直在和那些技術供應商進行溝通，想試圖解決光源問題。”
 “中科院那邊給出了一個準分子激光光源，這個系統只能說還能用，但是對我們45納米的項目卻沒有任何作用。”
 對於光源，陳塵多少還是瞭解一點的，那就是duv和euv光刻機的區別。
 前者的duv光刻機用的就是準分子激光光源，波長也只能達到193納米，所以魔都微電這邊在進行45納米光刻機研發時，準分子激光光源沒什麼作用。
 因為duv想做到45納米的精度，難度實在太大，以魔都微電的能力根本就做不到，必須要用euv才行。